首先，涂料中的成膜物即樹脂和顏料等大多數(shù)是由高分子有機化合物組成，多成為導電的電介質，溶劑形涂料除成膜物外還有、助溶劑、固化劑、靜電稀釋劑、及其他各類添加劑等物質。
這類溶劑性物質除了苯、二、溶劑等，大多是極性物質，電阻率較低，有一定的導電能力，它們能提高涂料的帶電性能。電介質的分子結構可分為極性分子和非極性分子二種。
極性分子組成的電介質在受外加電場作用時，顯示出電性；非極性分子組成的電介質在外加電場作用下，顯示電極性，從而對外來的導性電荷產(chǎn)生親合力，使電介質在外加電場中其外表面能局部帶電。斯普瑞粉末噴塑設備的涂料經(jīng)噴噴嘴霧化后噴出，被霧化的涂料微粒通過口的極針或噴盤、噴杯的邊緣時因接觸而帶電，當經(jīng)過電暈放電所產(chǎn)生的氣體電離區(qū)時，將再一次增加其表面電荷密度。
高真空方法 ：
真空鍍vacuum plating 真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
(1)真空蒸發(fā)鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發(fā)，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結合的金屬或非金屬覆蓋層的過程稱為真空蒸發(fā)鍍，簡稱真空鍍或蒸發(fā)鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。
(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強電場作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過程稱為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。
(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發(fā)源蒸出的粒子，經(jīng)過輝光放電區(qū)部分電離，通過擴散和電場作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結合鍍覆層的過程稱為離子鍍，如鍍氮化鈦等。
(4)化學氣相鍍 在低壓下，利用氣態(tài)物質在固態(tài)表面上進行化學反應生成與基體結合良好的固體沉積層的過程稱為化學氣相鍍（有時也有常壓下進行）。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質的過程稱為離子注入，如注硼等。
其它物理方法 主要利用機械的或化學的方法將有關金屬鍍覆于制件表面之上。屬于這一類有：
(1) 沖擊鍍 利用機械沖擊作用將有關金屬鍍覆于制件表面并形成與基體牢固 結合的鍍覆層過程稱為涂裝，如涂漆等。
(2) 涂裝 利用噴射、涂飾等方法，將有機涂料覆于制件表面并形成與基本牢固結合的涂覆層過程稱為涂裝，如涂漆等。
(3)激光表面加工，利用激光對制件表面進行輻照，使制件表面結構改變的過程稱為激光表面加工，如激光淬火等。
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